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主要观点
ASML光刻机出口限制好于市场预期，国内晶圆厂扩张有望重回正轨。3月8日，荷兰宣布正式加入美国在半导体行业中对中国的限制行列，同时荷兰光刻机大厂ASML通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》，强调荷兰政府的出口管制并不涉及所有浸没式光刻设备，只涉及“最先进”设备。ASML将“最先进”设备定义为TWINSCANNXT：2000i及之后的浸没式光刻系统。根据ASML官网，TWINSCANNXT：1980Di是管制之外制程较为先进的光刻设备，可以满足38nm以上的制程工艺，但实际理论上可以满足14-28nm的工艺生产，只是步骤更为复杂，成本更高。对于国内的晶圆厂来说，如果在荷兰的限制之外，仍然能够采购到满足14-28nm工艺的光刻机设备，那么国产线的推进仍旧可以继续，晶圆厂的扩张有望重回正轨。国内的其他前道设备厂及材料零部件供应商都有望重回加速渗透的阶段，产业链上下游有望持续受益。
国产光刻胶加速突破，半导体材料国产替代有望再加速。根据容大感光披露的投资者关系活动记录表，目前公司的干膜光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶等产品已经面向市场实现了批量销售，其中部分产品已进入核心客户的供应链体系，未来随着公司募投项目产能的逐步释放，公司将迎来新的发展阶段。除了上述情况之外，近年来国内的主流光刻胶厂在较为高端的产品上均有所突破，各家厂商也都纷纷扩大产能。我们认为，未来随着产能逐渐释放，验证通过越来越多，相关企业有望持续受益，实现快速增长。海外对华半导体行业的制裁，短期或受到一定影响，但长期来看有助于国产化率提升，实现自主可控。半导体材料的国产替代已经迫在眉睫，国内光刻胶厂商的验证因此有望再提速。
投资建议
维持电子行业“增持”评级，继续看好半导体设备、材料、零部件的国产替代加速。半导体设备板块重点推荐离子注入机龙头、半导体设备材料平台型新星万业企业，国产划片机、高转速空气主轴龙头光力科技，建议关注北方华创、中微公司、拓荆科技、芯源微、华海清科、盛美上海、长川科技、华峰测控等；半导体材料板块建议关注光刻胶相关公司彤程新材、华懋科技、容大感光、晶瑞电材、南大光电、上海新阳、飞凯材料等。半导体零部件板块推荐刻蚀用硅电极零部件龙头神工股份，建议关注新莱应材、富创精密、江丰电子等。
风险提示
晶圆厂扩张低于预期，半导体设备国产替代低于预期，光刻胶工艺突破低于预期
（来源：上海证券）